基于白光干涉无重叠拼接的微结构表征方法
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O436.1

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教育部高校博士点基金(新教师基金)资助项目(20070056072); 科技部国防科技合作与交流资助项目(2008DFA71610); 天津市自然科学基金资助项目(09JCYBJC05300)


Micro-structures characterization by non-overlapping image stitching of white-light interference
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    摘要:

    针对白光干涉技术(WLI)应用于大范围测量时图像重叠拼接会引入误差并降低测量效率这一缺欠,本文基于纳米测量机(NMM)提出了一种无重叠拼接的白光干涉测试方法。利用NMM的高精度定位能力,扩展了普通白光干涉仪的测量范围,实现了对微结构近4倍于CCD视场的大范围测量,验证了无重叠图像拼接的可实现性。

    Abstract:

    White light interferometry has become an important method in micro-structure characterization to perform high precision,fast and non-contact measurements.However,with the limit of the field of view of the objective,the large scale measurement can only be achieved by image stitching.In general case,the image stitching will apply overlapping for the collected images,and the superposed image will also introduce noise.In this paper,a new method based on the nano-measuring machine(NMM) and the white light interf...

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引用本文

郭彤.基于白光干涉无重叠拼接的微结构表征方法[J].光电子激光,2010,(7):

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