8通道-1.6nm Si纳米线阵列波导光栅的设计与制作
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TN252

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国家自然科学基金资助项目(60776057,60837001,60877014); 科技部863计划资助项目(2006AA03Z420)


Design and fabrication of an 8-channel and 1.6 nm arr ayed waveguide grating based on Si nanowires
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    设计了基于绝缘层上硅(SOI)材料的8通道Si纳米线阵列波导光栅(AWG),器件的通道间隔为1.6nm,面积为420μm×130μm。利用传输函数法模拟了器件传输谱,结果表明,器件的通道间隔为1.6nm,通道间串扰为17dB。给出了结合电子束光刻(EBL)和感应耦合等离子(ICP)刻蚀技术制备器件的详细流程。光谱测试结果分析表明,器件通道间隔为1.3~1.6nm,通道串扰为3dB,中心通道损耗为11.6dB。

    Abstract:

    An ultrasmall 8-channel arrayed waveguide grating (AWG) demultiplexer based on Si nanowire waveguide is designed.The demultiplexer channel spacing is 1.6 nm and its effective area is 420 μm×130 μm.The transimission spectra are simulated by the transimission function method and the results show that the device is with a channel spacing of 1.6 nm and crosstalk of 17 dB.The entire fabrication procedure is given by combining electron beam lithography (EBL) and inductively coupled plasma (ICP) etchin...

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赵雷.8通道-1.6nm Si纳米线阵列波导光栅的设计与制作[J].光电子激光,2010,(11):

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