射频溅射ZnO作缓冲层的HVPE法生长GaN厚膜
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TN304.054

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国家“863”计划资助项目(2006AA03A144)


Study of high-quality thick GaN films grown on RF-ZnO buffer by hydride vapoar phase epitaxy
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    摘要:

    在低温HVPE-GaN/c-Al2O3模板上射频溅射ZnO作为缓冲层,采用氢化物气相外延(HVPE,hydridevapoarphaseepitaxy)法外延生长了高质量的GaN320μm厚膜。用高分辨率双晶X射线衍射仪(DCXRD)、原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)分析了制备的GaN厚膜特性。结果表明,GaN(0002)面的X射线摇摆曲线衍射峰半高宽(FWHM)为336.15arcsec,穿透位错密度(TDD)为107cm-2,外延生长的GaN厚膜晶体质量较好,可以作为自支撑GaN衬底。

    Abstract:

    High-quality GaN films of 320 μm thickness are deposited on low-temperature HVPE-GaN/c-Al2O3 templates by hydride vapor phase epitaxy(HVPE) with RF-ZnO as the buffer layers.The crystal properties of ZnO buffers and thick GaN films are detected by double crystal X-ray diffraction(DCXRD),atomic force microscopy(AFM) and scanning electron microscope(SEM).As a result,the full width at half maximum(FWHM) of GaN(0002) double crystal x-ray diffraction rocking curve is 336.15 arcsec and the threading di...

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王如.射频溅射ZnO作缓冲层的HVPE法生长GaN厚膜[J].光电子激光,2009,(12):1602~1605

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