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沉积速率对硅基LiNbO3光波导薄膜特性的影响
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Effect of growth rate on the characteristics of LiNbO3 waveguide thin films on SiO2/Si substrate by PLD
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    利用脉冲激光沉积技术(PLD)在硅衬底上生长高c轴取向LiNbO3晶体薄膜,研究了激光脉冲频率即薄膜沉积速率对薄膜结晶质量及取向性的影响,发现激光脉冲频率对薄膜的c轴取向性基本没有影响,但对薄膜的结品质量影响较大,激光脉冲频率为3 Hz时获得了高结品质量的c轴取向LiNbO3晶体薄膜.XPS测试表明制得薄膜的组分符合等化学计量比,AFM测试显示制备的薄膜表面光滑,表面粗糙度为4.3 nm.棱镜耦合法测试表明制备的LiNbO3薄膜具有优异的光波导性能,光传输损耗为1.14 dB/cm.

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引用本文

王新昌,叶志镇,赵炳辉.沉积速率对硅基LiNbO3光波导薄膜特性的影响[J].光电子激光,2008,(11):

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