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MIC多晶硅薄膜的光学与电学特性及其优化
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国家高技术研究发展计划(863计划)平板显示专项资助项目，国家自然科学基金


Study of the electronic and the optic characters MIC poly-Si Thin Films and the optimization
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    制备了4种P型掺杂的多晶硅薄膜;固相品化(SPC)、金属诱导(MIC)、准分子激光晶化(ELA)和低压化学气象沉积(LPCVD)多晶硅薄膜,并且研究了它们的光学特性与电学特性.结果发现,MIC多品硅薄膜具有最小的可见光吸收率;ELA和MIC有较小的方块电阻,而SPC和LPCVD方块电阻较大.最后通过对MIC多晶硅薄膜厚度的优化表明,厚度为40 nm的MIC多晶硅薄膜最适合做有机电致发光器件的像素电极.

    Abstract:

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引用本文

李阳,孟志国,吴春亚,熊绍珍. MIC多晶硅薄膜的光学与电学特性及其优化[J].光电子激光,2008,(10):

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