首页 > 过刊浏览>2007年第卷第5期 >529-532
PDF HTML阅读 XML下载 导出引用 引用提醒
PTCDA表面射频磁控溅射ITO薄膜的特性研究
DOI:
CSTR:
[cstr]
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TN304 O484.4

基金项目:

国家自然科学基金 , 甘肃省自然科学基金


Study of ITO Thin Film Deposited on PTCDA by RF Magnetron Sputter
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
    • |
  • 图/表
    • |
  • 访问统计
    • |
  • 参考文献
    • |
  • 相似文献
    • |
  • 引证文献
    • |
  • 资源附件
    • |
  • 文章评论
    摘要:

    将氧化铟锡(ITO)溅射淀积在PTCDA/玻璃衬底表面,利用原子力显微镜(AFM)、四探针和紫外可见分光光度计分别测量薄膜的表面形貌、电阻率和透光率.结果表明:衬底温度对ITO在PTCDA上的淀积有着与在其他衬底上淀积所不同的影响,提高衬底温度淀积ITO并没有提高薄膜的结晶度;溅射功率的提高有利于ITO电阻率的下降,但是功率过高会破坏ITO薄膜的特性:ITO膜厚度的增加导致其电阻率减小.

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

孙硕,胥超,冯煜东,肖剑,张福甲. PTCDA表面射频磁控溅射ITO薄膜的特性研究[J].光电子激光,2007,(5):529~532

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:2006-06-26
  • 最后修改日期:2006-09-12
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码
邮政编码：300384 电话：022-60214470
网址：http://www.joelcn.net E-mail：baenxu@263.net
技术支持：北京勤云科技发展有限公司
光电子激光 ® 2025 版权所有