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一种激光诱导灼蚀制备纳米硅的新方法
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[cstr]
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TN24 TN304.12

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国家自然科学重点基金资助项目(60336010)


New Method of Nanosilicon Preparation by Pulsed-laser Deposition
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    摘要:

    采用高强度激光灼蚀沉积(PLD)的方式，在流动N2做为保护气体的情况下，成功制备出Si纳米结构，并利用扫描电镜(SEM)、光致发光(PL)进行表征。结果表明，该方法制备的纳米Si尺寸在几nm到几10nm之间，同时它具有较强的发光，发光强度比同等测量条件下的多孔Si(PS)样品高10倍以上，而且方法比较简单。

    Abstract:

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引用本文

林华传 陈松岩 谢可 张芹 黄传敬.一种激光诱导灼蚀制备纳米硅的新方法[J].光电子激光,2005,(6):730~734

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