TN814.6 TN256
国家863计划资助项目(2001AA312070)
以注入氧隔离(SIMOX)技术制备的SOI(silicon—on-insulator)为衬底,利用气相外延生长技术获得了质量良好的厚膜SOI材料,进而通过反应离子刻蚀方法在厚膜SOI材料上成功研制了SIMOX大截面单模脊型光波导。对于波长为1.55μm的光,其传输损耗小于0.6dB/cm。
林志浪 程新利 王永进 张峰. SIMOX大截面单模脊型光波导的研制[J].光电子激光,2004,(1):25~28