基于斜拉涂胶法光学胶膜厚度的精确模型
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中图分类号:
TN305.7
基金项目:
哈尔滨工业大学博士基金资助项目(AEBQ54300072)
Study on Thickness of the Photoresist Film in Incline-dip Coating
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引用本文
熊木地 谭久彬.基于斜拉涂胶法光学胶膜厚度的精确模型[J].光电子激光,2003,(9):1006~1007
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- 最后修改日期:2003-02-01
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