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波导材料SiO2的火焰水解生长及表征
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[cstr]
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TN252

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国家重点基础研究发展规划资助项目(G2000036602)


Silica Waveguide Material Fabricated by FHD and Its Characterization
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    采用火焰法水解法在Si衬底上制备了厚度约20μm 的波导下包层材料SiO2膜。利用原子力显微镜（AFM）、X射线光电子能谱（XPS）及可变入射角椭圆偏振仪（VASE）对其进行了测试分析，得到了空气中1400℃退火后SiO2的均方根粗糙度为0.184nm，原子比为1：2.183，在1.55μm 处的折射率为1.4564。

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引用本文

张乐天 谢文法 等.波导材料SiO2的火焰水解生长及表征[J].光电子激光,2003,(3):271~273

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  • 最后修改日期:2002-06-24
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