用相干刻蚀制作大面积的二维纳米阵列
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TN305

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国家自然科学基金,6998700269978015,


Using Interferometric Lithography to Make Large-area Two-dimensional Nanoarrays
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    摘要:

    采用多级激光扩束获得大面积的均匀光场分布,利用相干刻蚀(IL)技术,制作了大面积(3.23cm^2)的二维(2D)周期阵列结构,如光栅和栅格,并以此阵列制备出空间周期为300nm的金属Ag、Au和磁性材料Ni的点阵结构。

    Abstract:

    The uniform light field over a large-area,gained by cascaded laser beam expanding,was used to make large-area of 3.23 cm2 two-dimensional(2D) periodic array structures such as grating and grids by interferometric lithography(IL) technique.Arrays were engineered with a spatial period of 300 nm for metallic Ag and Au and magnetic material of Ni.

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    引证文献
引用本文

向望华 谭艺枝 张贵忠 王刚 J. B. Ketterson.用相干刻蚀制作大面积的二维纳米阵列[J].光电子激光,2003,(10):1054~1057

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