异常掺杂引起的AlGaInP同型结结构
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TN312.8

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The AlGaInP Homotype Junction Induced by Abnormal Doping
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    摘要:

    用电化学C-V和I-V特性分析的方法,对Mg掺杂在MOCVD生长AlGaInP发光二极管(LED)的影响进行了研究。通过电化学C-V分析,确定了在生长结构中Mg掺杂从有源层到GaP窗口层由高到低的情况;用I-V特性分析的方法对器件结构进行了分析,发现了异常的实验结果。同时理论计算得到了同型结(N^ -N,P^ -P)的势垒高度和空间电荷区的宽度,由此得到了在同型结两侧浓度比不同时的差异,极好的解释了异常的I-V测试结果。

    Abstract:

    The electrochemical C V profiler and the current voltage(I V) characteristics analysis was used to study the influence on doping Mg in AlGaInP with MOVCD growth.Through the electrochemical C V profile,we analysed the density of Mg in the AlGaInP growth structure,and used the I V characteristics to analyse the structure of the AlGaInP LED device,then found an abnormal result.From computing and theory analyzing the structure of the homotype junction (N + N,P + P),we got the height of the homotype junction barrier and the width of the space charge region,and analysed the doping density difference between both sides of the homotype junction.It excellently explained the abnormal I V characteristics result.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

周海龙 任忠祥 等.异常掺杂引起的AlGaInP同型结结构[J].光电子激光,2002,(6):578~580

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  • 最后修改日期:2001-11-14
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