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ZnO薄膜制备及其发光特性研究
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[cstr]
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TN304.21

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Preparation and Property Investigations of Magnetron Sputtered Zinc Oxide Thin Films
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    用射频磁控反应溅射法分别在未加热和加热的石英玻璃衬底上制备ZnO薄膜，在不同温度下进行退火处理，研究衬底温度、退火条件对其结构和发光性能的影响。通过对样品的X射线衍射（XRD）、吸收光谱和光致发光（PL）光谱的测量结果表明，衬底温度为230℃、退火温度为400℃时样品结晶性能最佳，并具有最强的紫外光发射（380nm）。

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引用本文

王晶 张希清 等. ZnO薄膜制备及其发光特性研究[J].光电子激光,2002,(11):1116~1119

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  • 最后修改日期:2002-06-19
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