TN305.7
国家自然科学基金资助项目 ( 6 0 0 780 0 6 )
本文介绍了四轴激光直接写入系统,对激光直接在光刻胶上写入图形的工艺进行了研究,讨论了在不同离焦情况下,胶层内光斑的大小和强度分布,采用离焦的方法在光刻胶上刻画了周期为20μm的线光栅和线宽为10μm的分划板,对实验结果进行了分析。
李凤友 赵晶丽 等.激光直按写入工艺的研究[J].光电子激光,2001,(9):949~952