高反射率光学薄膜的一种新设计方法
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O484.41

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An New Method to Design High Reflectivity Film
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    设计极高反射率光学薄膜必须考虑薄膜内电场强度分布对光损耗的影响。本文提出一种新设计方法用于既改善膜层内电场分布以减少薄膜的光损耗,同时又兼顾薄膜的反射率要求。该方法用薄膜的特征和矩阵直接计算场强和反射率,建立综合评价函数来兼顾场强分布和光学反射率的要求,利用计算机进行优化设计。而且该方法能灵活有效地按任意场强和反射率要求优化设计各种膜系。

    Abstract:

    In this paper a new method which improves not only electrical field distribution in film layers to decrease losses but also ensures good optical reflectivity was presented.This method applied character matrix of optical film to calculate electric field distribution and reflectivity.An assessment function is constructed for considering to both electrical field distribution and reflectivity.The method can be used in optimization design for any electric field distribution or reflectivity.

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

孔明东 周九林.高反射率光学薄膜的一种新设计方法[J].光电子激光,2000,(1):62~64

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  • 最后修改日期:1999-06-05
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