InP衬底GaAs张应变层上InAs量子点的原子力显微镜分析
DOI:
CSTR:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

TN304.23

基金项目:

国家“八六三”计划资助项目,国家自然科学基金重大资助项目!( 698962 60 )


AFM Analysis of InAs Quantum Dots on GaAs Tensile Strained Layer on InP Substrate
Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    本文利用LP-MOCVD系统在InP(001)衬底上先生长约2nm的GaAs张应变层,再依据S-K生长模式生长InAs量子点层。用量子力显微镜(AFM)对InAs量子点(岛化)进行了研究。研究发现当InAs层的厚度为2个单原子层(ML)时,刚刚有InAs自组装量子点在表面形成;当InAs层的厚度为ML时,有大量的InAs自组装量子眯在表面形成,且量子点的有规律地沿两个正交方向排列,沿某一方面排列较

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

金智 李明涛. InP衬底GaAs张应变层上InAs量子点的原子力显微镜分析[J].光电子激光,2000,(1):29~31

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:1999-10-05
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码