MOCVD生长的未掺杂的In1-xGaxP中的本征缺陷
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Native Defects in Undoped In1
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    利用深能级瞬态谱(DLTS)和瞬态光电阻率谱(TPRS)研究了利用金属有机物化学气相沉淀(MOCVD)方法生长的未有意掺杂的In

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    利用深能级瞬态谱(DLTS)和瞬态光电阻率谱(TPRS)研究了利用金属有机物化学气相沉淀(MOCVD)方法生长的未有意掺杂的In

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王海龙 封松林. MOCVD生长的未掺杂的In1-xGaxP中的本征缺陷[J].光电子激光,1999,(4):1~

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