在亚μｍｉ线曝光装置上研究了四极、环形、及二元光栅照明对投影光刻分辨力的影响。主要就曝光能量，分辨力改善情况，焦深变化等与传统情况作了比较。研究发现，就分辨力和焦深而言，３种方法均有效；综合利用率，照明均匀性和分辨力提高程度 、二元光栅是罗好的方法，将分辨力从０．８μｍ提高到０．５μｍ，证实了离轴照明对大于０．５μｍ的图形分辨力同样有提高作用。