激光分子束外延
DOI:
CSTR:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

O782

基金项目:


Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    激光分子束外延是在传统分子束外延和普通激光淀积技术基础上发展起来的一种最新制备薄膜和人工超晶格方法。本文介绍了激光分子束外延的工作原理,与传统分子束外延和普通激光淀积技术的区别,主要特点和发展现状,并对其前景进行了简要的评价。

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

崔大复,王玉堂.激光分子束外延[J].光电子激光,1994,(4):

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码