用于大功率CO_2激光加工机的高质量薄膜元件
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    在10.6μm高能激光器中使用较理想膜料是ZnS,ZnSe和ThF_4,我们用BaF_2掺杂CeF_3,SrF_2和CaF_2制成了类玻璃态薄膜,用来代替放射性较强的ThF。为了减小吸收和界面电场强度,我们用规整膜系进行设计,研制出(1)反射率分别为99.2%,99.5%,99.75%和99.85%四种高反膜,其中硅基底反射镜(R为99.55%)抗激光损伤)10~9W/cm。(2)圆偏振膜的反射率为99.35%(7°入射),位相延迟为90+4°

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初国强,姜耀亮,袁幼心,王乃弘,王启平.用于大功率CO_2激光加工机的高质量薄膜元件[J].光电子激光,1993,(1):

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