激光诱导光学涂层破坏研究的进展
DOI:
CSTR:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

基金项目:


Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    了解激光诱导光学涂层破坏的机制,对于增强涂层的抗破坏性是非常重要的.光学吸收是光学涂层中能量淀积和温度上升的主要原因。因此,它是限制涂层抗激光破坏的一个重要因素.这种能量的淀积和温度的上升不仅仅取决于激光的性质,而且也取决于涂层的光学和热物理学两方面的性质.本文描述了杂质起主导破坏作用的模型.讨论了

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

钟迪生,沈群.激光诱导光学涂层破坏研究的进展[J].光电子激光,1990,(2):

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码