紫外3500埃~4500埃增透膜
DOI:
CSTR:
作者:
作者单位:

作者简介:

通讯作者:

中图分类号:

基金项目:


Author:
Affiliation:

Fund Project:

  • 摘要
  • |
  • 图/表
  • |
  • 访问统计
  • |
  • 参考文献
  • |
  • 相似文献
  • |
  • 引证文献
  • |
  • 资源附件
  • |
  • 文章评论
    摘要:

    由于科学技术的发展,许多研究领域都对短波长的紫外波段发生了极大的兴趣,如短波长的准分子激光,YAG三倍频激光器等的工作波长都在4000埃以下;大规模集成电路用的光刻机目前也有许多是工作在3500~4500埃波段,这类紫外激光器件及光刻机的研究工作必然要对紫外波段的光学薄膜提出相应的要求,不但需要高质量的紫外高

    Abstract:

    参考文献
    相似文献
    引证文献
引用本文

王秀芬,张虹.紫外3500埃~4500埃增透膜[J].光电子激光,1990,(2):

复制
分享
文章指标
  • 点击次数:
  • 下载次数:
  • HTML阅读次数:
  • 引用次数:
历史
  • 收稿日期:
  • 最后修改日期:
  • 录用日期:
  • 在线发布日期:
  • 出版日期:
文章二维码