| 高强,杨丹,杨永强,陶冶,刘云飞,段羽,陈平.有机/无机/有机结构的封装薄膜水汽透过率研究[J].光电子激光,2014,(9):1721~1726 |
| 有机/无机/有机结构的封装薄膜水汽透过率研究 |
| Study of the water vapor transmission rate for the organic/inorganic/organic hybrid barrier film |
| 投稿时间：2014-04-14 |
| DOI： |
| 中文关键词: 原子层沉积(ALD) Ca电学测试 有机/无机/有机3层封装结构 |
| 英文关键词:atomic layer deposition (ALD) Ca electrical test organic/inorganic/organic three - layer barrier structure |
| 基金项目:国家科技计划项目(2014DFG12390)、国家高科技研究发展计划(2011AA03A110)、国家重点 基础研究发展计划(2010CB327701,3CB834802)、国家自然科学基金(61275024,2,61275033,6, 41001302);吉林省科技发展计划(20140101204JC,20140520071JH);长春市国际合作科技计划(13GH02)和集成光电子国家重点实验室开放课题(IOSKL2012KF01)资助项目 , 陈平 (吉林大学 电子科学与工程学院 , 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 ,吉林 长春 130012) |
| 作者 | 单位 | | 高强 | 吉林大学 电子科学与工程学院 , 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 ,吉林 长春 130012 | | 杨丹 | 吉林大学 电子科学与工程学院 , 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 ,吉林 长春 130012 | | 杨永强 | 吉林大学 电子科学与工程学院 , 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 ,吉林 长春 130012 | | 陶冶 | 吉林大学 电子科学与工程学院 , 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 ,吉林 长春 130012 | | 刘云飞 | 吉林大学 电子科学与工程学院 , 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 ,吉林 长春 130012 | | 段羽 | 吉林大学 电子科学与工程学院 , 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 ,吉林 长春 130012 | | 陈平 | 吉林大学 电子科学与工程学院 , 集成光电子学国家重点联合实验室吉林大学实验区 ,吉林 长春 130012 |
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| 中文摘要: |
| 为了减少原子层沉积(ALD)方法在氧化物薄膜制 备过程中ALD反应 气对有机电致发光器件(OLED)性能的影响,利用旋涂 光交联聚合物 技术,直接在OLED上形成有机/无机/有机3层结构的保护薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)、 原子力显微镜(AFM)的表 面形貌分析表明,3层结构的封装薄膜表面平滑且致密,减少水(H2O)汽在氧化物表面积 聚,降低H2O对氧化 物薄膜的腐蚀作用,且成膜过程对OLED的各功能层没有伤害。经Ca薄膜的电学方法测量证明 ,这种3层结构 的封装薄膜对气体有极高的阻隔作用,其H2O汽透过率(WVTR)可以达到9.0×10－5 g/(m2·day),从而实现了对 OLED的 有效保护。 |
| 英文摘要: |
| In order to suppress the negative effect on organic light emitting diodes (OLED s) during the atomic layer deposition (ALD) encapsulation process,barrier layers are fabr icated before and after ALD deposition film to prevent the corrosion of precursor and water vapor.In this work,we developed a n o rganic/ i norganic/ o rganic (OIO) h ybrid structure to over come the limitations of ALD oxide film. The spin - coating o rganic photor esist film play s the role as the primary barrier . It prevent s reac t ant precursor contact ing with the electrode and organic layer , and bulk water in the air pil ing up on the surface of inorganic thin film.The inorganic film deposited by ALD technology bet ween the organic films is used to improve the barrier property of OIO hybrid str ucture.The microscope,scan electron microscope (SEM) and atomic force microscope (AFM) ar e used to investigate the film structure and surface properties.The water vapor trans mission rate (WVTR) is measured by calcium testing system.The images of SEM and AFM show a smooth and dense OIO three-layer hybrid film.Compared with single inorganic film,the WVTR of OIO hybrid film is from 4.0×10－ 1 g/(m 2day) to 9.0× 10－ 5 g/(m 2day) , which is increased effectively.T his technology would be expected as a useful method for protecting OLED. |
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